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氧化扩散炉,氧化扩散炉主要应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。控制系统特点:可保存多条工艺曲线,每条曲线可设置多步工艺曲线的自动运行控制功能;自动运行中可暂停/继续运行功能;工艺中可强制跳到下一工艺步运行功能;可存储多组PID参数供系统运行调用功能;PID参数自整定功能;具有自主知识产权的软件系统,良好的人机界面;系统故障自诊功能;工艺气体的程序控制功能;停电后断点继续运行功能等;关键件全部具有高可靠性;具有历史记录功能;具有多种故障报警及各种安全互锁保护功能;具有多点温度补偿。技术指标●可配置工艺管外径2~8英寸●可配置工艺管数量:1~4管/台●工作温度范围:400~1300℃●恒温区长度:300~1250mm●恒温区精度:±0.5℃(800~1300℃)●单点温度稳定性:±0.5℃/24h(800~1300℃)●可控升温速率:15℃/min●降温速率:5℃/min
合顺合电子设备提供的氧化扩散炉销售网络覆盖全国各地。创建更具竞争力的产品是我司全体工作人员共同的目标。在您订购后,我们会以陆运;公路运输的方式为您配送。“为用户创造价值”倡导的已不是简单的买卖内涵,而是要在工作中努力为用户创造特有的价值,使他们成为企业的伙伴。
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