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氧化扩散炉咨询电话,氧化扩散炉主要应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。控制系统特点:可保存多条工艺曲线,每条曲线可设置多步工艺曲线的自动运行控制功能;自动运行中可暂停/继续运行功能;工艺中可强制跳到下一工艺步运行功能;可存储多组PID参数供系统运行调用功能;PID参数自整定功能;具有自主知识产权的软件系统,良好的人机界面;系统故障自诊功能;工艺气体的程序控制功能;停电后断点继续运行功能等;关键件全部具有高可靠性;具有历史记录功能;具有多种故障报警及各种安全互锁保护功能;具有多点温度补偿。技术指标●可配置工艺管外径2~8英寸●可配置工艺管数量:1~4管/台●工作温度范围:400~1300℃●恒温区长度:300~1250mm●恒温区精度:±0.5℃(800~1300℃)●单点温度稳定性:±0.5℃/24h(800~1300℃)●可控升温速率:15℃/min●降温速率:5℃/min
合顺合电子设备拥有 的生产制造设备,雄厚的科学技术力量,以及现代化的质量检测手段和完善的售后服务。通过严格的产品管理体系,公司有着良好的企业信誉,产品遍布全国各地。本公司通过直销;厂家直销的销售方式将的氧化扩散炉供应给电子产品制造设备市场,我们的产品优异,价格公道,请您放心购买。
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