光刻胶是什么_光刻胶成份_光刻胶分类

光刻胶是什么

光刻胶针对很多人而言很有可能会较为不太熟悉，它是半导体材料的一类，归属于化工新材料，在微电子技术中有巨大的功效，今日大家就从成份到分类、用途来详尽认真了解一下光刻胶是什么。

光刻胶以及成份光刻胶是什么

光刻胶是一类有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会产生变化。光刻胶是微电子技术中细小图型生产加工的重要材料其一，尤其是近些年规模性和超大规模集成电路芯片的发展趋势，也是大大的推动了光刻胶的科学研究开发设计和运用。

光刻胶一般 有三种成份：感光化合物、基材材料和有机溶剂。在感光化合物中有时候还包含增感剂。

光刻胶的分类光刻胶是什么

1、负性光刻胶

关键有聚肉桂酸系（聚酯胶）和环化橡胶系两大类，前者以柯达公司的KPR为意味着，后面一种以OMR系列产品为意味着。

2、正性光刻胶

关键以重氮職为感光化合物，以酚醛树脂为基本材料。常见的有AZ-1350系列产品，关键优势是分辨率高，缺陷是灵敏度、耐刻蚀性和附着性等比较差。

3、负性电子束光刻胶

为带有环氧基、乙烯基或环硫化物的聚合物。常见的是COP胶,灵敏度0.3~0.4pC/cm2(加快工作电压10KV时）、分辨率1.0pm、对比度0.95。限定分辨率的关键关键因素是光刻胶在显影时的增溶。

4、正性电子束光刻胶

关键为甲基丙烯甲酯、烯砜和重氮类这三种聚合物。常见的是PMMA胶,典型性特点:灵敏度40~80pC/cm^2(加快工作电压20KV时）、分辨率0.1um、对比度2~3。PMMA胶的关键优势是分辨率高。关键缺陷是灵敏度低，除此之外在高温下易流动，耐干法刻蚀性差。

光刻胶的用途光刻胶是什么

光刻胶是微电子技术中细小图型生产加工的重要材料其一，在模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道和生物芯片、光电子器件/光子器件中都有重要的运用。

 

深圳市百通达科技有限公司主要经营的产品有:光刻胶，蚀刻液，缓蚀抗氧化剂，巴斯夫电镀中间体，Protectol GA 50,104LS蛋白酶,巴斯夫Agnique-SLES 270T,Ampho-149,Glucopon225DK,Lutropur M70,巴斯夫Pluronic 1720,Pluronic1740,NP-S,巴斯夫防雾涂料,巴斯夫HP100,巴斯夫PE系列多个品种，同时经营国内外 化工企业产品，包括基础化工原料、表面活性剂等三百多个品种；

 

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