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在熔高阻硅片中，可以使本征区熔高阻硅片成为一种具有良好抗静电、耐高温的保护层。由于本征区熔高阻硅片生产技术较好，质量稳定、成本低廉，具有固定的竞争力；而在原来的生产线上则因为设备老化、工艺落后等原因不能适应市场需求。在不同的清洗剂中，本征区熔高阻硅片表面的活性物质能够与其它材料相互吸附，这些活性物质能有效地降低了对外延和扩散工序的污染。在高温下，本征区熔高阻硅片表面的二氧化硅吸附物质不易被破坏；对于推动高温本征区熔高阻硅片表面二氧化锰吸附物质的破坏和防治高温熔硅片表面的二氧化锰吸附物质的防治，提供了理论基础。
本征区熔高阻硅片具有优良的耐热性能和较强抗干扰性，本征区熔高阻硅片具有较好耐腐蚀、抗氧化和耐化学药品残留等特点。在工业生产中，由于本征区熔高阻硅片的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，能有效提高外延或扩散工序的成品率。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面成保护层，防止颗粒的二次吸附。本征区熔高阻硅片在清洗剂中的活性物质含量达到了99%以上，而同类产品中活性物质含量只有2%。
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