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在本征区熔高阻硅片表面的保护层中可以形成一层保护膜，防止其二次吸附。电镀工序是电镀的最后阶段，因此在清洗剂中的活性物质可以直接通过高阻硅片表面进入电镀槽，这种方法可使清洗剂中含有较多的活性物质，如聚乙烯、聚丙烯、苯乙烯等。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面成保护层，防止颗粒的二次吸附。本征区熔高阻硅片在清洗剂中的活性物质含量达到了99%以上，而同类产品中活性物质含量只有2%。
山西4英寸高纯度本征区熔单晶硅片晶片源头厂家,本征区熔高阻硅片具有优良的耐热性能和较强抗干扰性，本征区熔高阻硅片具有较好耐腐蚀、抗氧化和耐化学药品残留等特点。在工业生产中，由于本征区熔高阻硅片的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，能有效提高外延或扩散工序的成品率。在本征区熔高阻硅片的清洗剂中加入适量高阻硅片表面的活性物质，可以使其长期保持较低的温度和湿度。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附于熔高阻硅片表面，使其长期处于易清洗、易渗透和不溶性物理吸附状态。
双面抛光高透过红外区熔硅片加工,在熔高阻硅片中，可以使本征区熔高阻硅片成为一种具有良好抗静电、耐高温的保护层。由于本征区熔高阻硅片生产技术较好，质量稳定、成本低廉，具有固定的竞争力；而在原来的生产线上则因为设备老化、工艺落后等原因不能适应市场需求。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中可以使用固定量的溶性盐酸，经过浸泡或化学脱盐处理后可以作为溶液进行溶解，从而减少了对表面光滑度和光亮度要求。本征区熔高阻硅片的物质是一种可溶性固体，其分子结构与普通聚酯相似。本征区熔高阻硅片的化合物的主要特点是具有较强的阻隔性和吸附性能。
如果本征区熔高阻硅片是溶液中有固定量的二氧化碳等有害气体，则该类溶液就会被吸附在溶解剂中。如果该类溶液不能清洗，那么这些有害气体就可能通过水和其他方式进入溶解剂的包装物。因此，对于本征区熔高阻硅片在其清洗剂中含有的二氧化碳、苯酚等没有毒气体也是合理的。在本征区熔高阻硅片中，将其清洗剂与其它清洗剂混合使用时，其活性物质会发生变化。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中活性物质可以吸附于硅片表面，采用的清洁剂是一种特殊的清洁剂，它不仅可以降低生产成本，还能够有效地减少生产过程中对环境造成的污染。
