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在清洗剂中,对本征区熔高阻硅片表面的氧化物进行消毒处理可以达到防止其二次吸附、保护膜和表面光洁度的效果。本征区熔高阻硅片与氧化物的消毒方法相同,但是其高阻硅片中含有大量的氧化氢。本征区的熔高阻硅片在其清洗剂中可以吸附在硅片表面,使其长期处于易清洗的物理吸附状态。本征区的熔高阻硅片在其清洗剂中可以吸附在硅片表面,使之长期处于易清洁状态。本征区熔高阻硅片的活性物质可以吸附在硅片表面,使其长期处于易清洗的物理吸附状态,并在表面成保护层,能有效提高外延或扩散工序的成品率。
4寸区熔本征单晶硅片 源头厂家,在熔高阻硅片中,可以使本征区熔高阻硅片成为一种具有良好抗静电、耐高温的保护层。由于本征区熔高阻硅片生产技术较好,质量稳定、成本低廉,具有固定的竞争力;而在原来的生产线上则因为设备老化、工艺落后等原因不能适应市场需求。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中可以使用固定量的溶性盐酸,经过浸泡或化学脱盐处理后可以作为溶液进行溶解,从而减少了对表面光滑度和光亮度要求。由于氯化钙、氟化钾等成品中有固定比例的抗氧化物,这些成品对环境有较强吸附作用。而氟化钙、氧气的含量高,则对环境有很大影响。另外,氯化钙中还含有较多的氟离子。这样既可以起到防止其外泄的作用,也能保证清洗剂的质量。